• 中文名称： 六乙基二硅氧烷 | 1,1,1,3,3,3-六乙基-2-氧杂二硅烷

• 英文名称： Hexaethyldisiloxane | 1,1,1,3,3,3-Hexaethyl-2-oxadisilane

• CAS号： 994-49-0

• 分子式： C??H??OSi?

• 分子量： 246.55 g/mol

• 结构式： (C?H?)?Si-O-Si(C?H?)?

• 外观： 无色透明液体。

• 特性： 典型的有机硅氧烷，对空气和水分极其敏感，属于易水解化合物。

化学性质

1. 核心结构： 分子中心是一个 Si-O-Si 键（硅氧键），两端各连接三个乙基。这是 的对称型三烷基硅基保护的硅氧烷之一。

2. 高反应性： 由于硅原子对氧有高亲和力，其Si-O-Si键在酸性或碱性条件下（尤其是存在水或亲核试剂时）容易断裂，发生水解或醇解等反应。

3. 稳定性： 对热相对稳定，但对湿气高度敏感。暴露在空气中会迅速与水反应，生成三乙基硅醇 [(C?H?)?SiOH] 和/或进一步缩合。

4. 化学惰性（在无水条件下）： 在严格的无水无氧环境中，它可以作为惰性溶剂或反应介质使用。

主要用途

1. 有机合成与硅化学中的关键试剂：

   • 三乙基硅基 (Triethylsilyl, TES) 保护基的来源： 在酸性或碱性催化剂存在下，它能与醇、酚、羧酸、酰胺等含有活泼氢的化合物反应，提供 -SiEt? 保护基，生成相应的三乙基硅基醚或酯。这是一种常用的羟基保护方法。

   • 封端剂： 在硅橡胶或硅油等高分子合成中，用于终止聚合物链增长，控制分子量。

   • 硅烷化试剂： 用于气相色谱-质谱（GC-MS）等分析前处理中，对极性化合物进行硅烷化衍生，以改善其挥发性和热稳定性。

2. 半导体与电子材料工业：

   • 可作为化学气相沉积（CVD）或原子层沉积（ALD）的前驱体，用于沉积含硅氧化物薄膜。

   • 在制备高纯度硅基材料中作为中间体或硅源。

3. 溶剂与反应介质：

   • 因其非极性和相对较高的沸点，有时在无水无氧的特殊反应中用作惰性溶剂。