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三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]钆(III),35789-03-8
- 英文名称：TRIS(N N-BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE)GADO&
- 品牌：翁江试剂
- 产地：广东韶关
- 型号：25克,100克,500克,25公斤及其它包装规格
- 货号：PA97713
- 纯度：≥98.0%
- cas：35789-03-8
- 价格： ￥1600/瓶
- 发布日期： 2025-03-14
- 更新日期： 2025-06-27
产品详请
| 产地 | 广东韶关 |
| 品牌 | 翁江试剂 |
| 货号 | PA97713 |
| 用途 | 科研实验、研发、生产应用 |
| 包装规格 | 25克,100克,500克,25公斤及其它包装规格 |
| CAS编号 | 35789-03-8 |
| 纯度 | ≥98.0%% |
| 是否进口 | 否 |
三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]钆(III)
CAS号：35789-03-8
分子式：C??H??GdN?Si?
分子量：约 693.43 g/mol
基本性质
物理状态：通常为无色至淡黄色固体（可能因纯度或溶剂合物状态略有变化）。
材料化学：用于化学气相沉积（CVD）或原子层沉积（ALD）制备含钆功能材料（如钆基氧化物薄膜）。
有机金属化学：作为钆(III)试剂参与偶联、聚合或催化反应。
科研应用：研究镧系金属配合物的结构与反应性。
CAS号：35789-03-8
分子式：C??H??GdN?Si?
分子量：约 693.43 g/mol
基本性质
物理状态：通常为无色至淡黄色固体（可能因纯度或溶剂合物状态略有变化）。
溶解性：易溶于非极性或弱极性有机溶剂（如甲苯、己烷、四氢呋喃）。对空气和水分敏感，需在惰性气氛（如氩气或氮气）中操作。
材料化学：用于化学气相沉积（CVD）或原子层沉积（ALD）制备含钆功能材料（如钆基氧化物薄膜）。
有机金属化学：作为钆(III)试剂参与偶联、聚合或催化反应。
科研应用：研究镧系金属配合物的结构与反应性。
